ChemNet
 

[На предыдущую главу]

Введение

Химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition – CVD) в последние 10–15 лет находит все большее применение для получения широкого диапазона материалов [1]. Это уникальный, гибкий и достаточно экономичный способ молекулярного формирования, т.е. получения материалов путем контролируемого осаждения вещества в виде отдельных атомов или молекул из химически активной газовой смеси, которую термически активируют. Общей характерной чертой молекулярного формирования осадков с заданными свойствами является возможность получения материалов необходимой плотности, толщины и состава [1]. Изучению химического газофазного осаждения молибдена (CVD-процесса) из гексакарбонила молибдена посвящено незначительное число работ. И в большинстве из них Мо осаждался на непористом теле (металлические трубки, нити, пластины и т.д.) [2, 3].

Данная работа посвящена изучению влияния основных параметров процесса химического осаждения Мо из паров гексакарбонила на характер осаждения Мо на пористую керамическую подложку и выбору рациональных условий, необходимых для формирования анизотропной пористой структуры Мо-керамических мембран.

Из различных публикаций известно, что Мо проявляет высокие адгезионные свойства к керамическим материалам и обладает интересными химическими, фотохимическими [4] и адсорбционно-каталитическими свойствами [5], изучении которых до сих пор практически не начато.

[На следующую главу] [На Содержание]

Copyright ©




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору