[На предыдущую главу]

CVD-процесс проводился в вертикальном реакторе проточного типа (схема CVD-реактора представлена на рис. 1), изготовленном из молибденового стекла и состоящем из двух зон: низкотемпературной (испаритель – (1), длина = 100мм) и высокотемпературной (реакционная камера – (2), длина = 200мм). В высокотемпературной зоне располагалась керамическая подложка (6), а в низкотемпературной – исходное вещество – реактивный гексакарбонил молибдена Мо(СО)₆ – (3).

При выборе Мо-содержащего соединения предпочтение было отдано Мо(СО)₆, поскольку данное вещество (при небольших его исходных количествах) обеспечивает достаточную концентрацию паров при переходе в газовую фазу, при невысокой температуре испарения (t_{исп.нач.} = 40°С; t_{разл.нач.} = 150°C), и практически не дает побочных реакций [6].

Реакция термораспада гексакарбонила Мо имеет вид [6]:

Мо(СО)₆ ® Мо + 6СО­ .

Пары Мо(СО)₆ подводились с помощью газа-носителя, в качестве которого использовался азот (N₂) высокой чистоты (99,999%vol.).

В качестве подложки использовали пористые керамические трубки (6) со следующими характеристиками: a-Al₂O₃ – корунд; наружный диаметр = 7,4–7,8 мм; толщина стенки = 1–1,2 мм; длина = 8–10 мм; уд. поверхность = 0,1 м²/г; открытая пористость = 43–45%; преобладающий радиус пор = 0,3 мкм.

[На следующую главу] [На Содержание]

Copyright ©