ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
9.МБ.340. Способ и устройство для обработки сточных вод содержащих двуокись кремния Wastewater treatment process and apparatus for high flow silica removal. Allen Stephen D., Lyman Leonard Rees. Пат. 5904853 США, МПК6 C 02 F 1/44, 1/56; Microbar Inc. 08/957049; Заявл. 24.10.1997; Опубл. 18.05.1999; НПК 210/638
Большие объемы СВ, содержащие SiO2 напр. СВ рудников предложено обрабатывать коагулянтом для увеличения частиц SiO2 до диаметра >5 микрон. В кач-ве коагулянта можно использовать алюминат натрия, хлорид и сульфат алюминия и эпидиметиламин. Соотношение коагулянта и SiO2 от 2:1 до 3:1. Обработанную коагулянтом СВ пропускают через микрофильтрац. МБ. Материалом для мембраны служит ПП, покрытый ПТФЭ. Отложения на МБ периодически смывают струей воды. Задержанные мембраной загрязнения поступают в сборник и на дальнейшую обработку

Ключевые слова: акк сточные воды очистка% н шахтных% акк кремний диоксид% н удаление% акк коагуляция% н хим.% акк микрофильтрация% акк мембраны полимерные% н ПП, покрытый ПТФЭ, использование% акк отложения на мембранах% н периодическая смывка струей воды


Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.

Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору