ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
9.МБ.315. Устройство для испарения жидкости с регулируемым расходом пара Dispositif de vaporisation de liquide a regulation de debit de vapeur. Rousset Andre. Заявка 2783178 Франция, МПК7 B 01 J 4/02; Omicron technologies Societe a responsabilite limitee. FR. 9811713; Заявл. 16.09.1998; Опубл. 17.03.2000
Предлагается устр-во для испарения жидкости с регулируемым расходом пара, в к-ром сжатая жидкость проходит через расходомер в ячейку испарения с мембранным разделением. Нагреват. элемент, расположенный рядом с ячейкой позволяет регулировать соотношение жидкость/пар. Выход из ячейки снабжен регулирующим клапаном. Расход жидкости сравнивается с предписанным значением и регулирующий сигнал меняет величину отверстия регулирующегося клапана на выходе из ячейки с целью поддержания значения расхода пара в соответствии с заданным значением. Использование изобретения в устр-вах нанесения ПК с помощью PVD

Ключевые слова: акк испарение% акк жидкости% н сжатые% анн с регулируемым расходом пара% акк разделение% н мембранное% акк расходомеры% акк мембраны% н использование% акк покрытия нанесение% н осаждением из паровой фазы


Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.

Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору