 |
|
|
29.МБ.60. Газопроницаемость мембран из легированного иттрием ZrO2, содержащих металл
Gas permeation through metal-loaded yttrium doped zirconia membranes. Shibao Fumio, Jeong Byeong-Heon, Hasegawa Yasuhisa, Sotowa Ken-Ichiro, Kusakabe Katsuki. (Япония) Separ. Sci. and Technol.. 2004. 39, № 6, с. 1259–1265. Библ. 10. Англ.
Порошки ZrO2, стабилизированного Y2O3 (YSZ) с мольным отношением Y/Zr 0,01, 0,04 и 0,08 получали золь-гель методом. Исследовали их кристаллич. структуру и распределение пор по размерам. Порошок ZrO2, стабилизированного 8 мол.% Y (8 YSZ), сдерживал кристаллизацию и имел самые мелкие поры. Пористые мембраны 8 YSZ, полученные на пористой трубчатой подложке из α-Al2O3 золь-гель методом, показали низкую селективную проницаемость (5,1 для H2 к CO2). Мембраны модифицировали импрегнированием Pt или Ni для повышения селективной проницаемости H2. Селективная проницаемость H2 к CO2 при 500ºC через мембраны Pt-YSZ и Ni-YSZ возрастала до 22 и 29, соответственно.
Ключевые слова: АКК мембраны, АКК цирконий диоксид, н легированный Y2O3, АКК кристаллическая структура, АКК газопроницаемость, АКК модифицирование, н Pt или Ni, влияние
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
