ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
26.МБ.384. Мембрана для прохождения кислорода при высоких температурах Sauerstoffmembran fur den Eisatz bei hohen Temperaturen. Al Daroukh Mahmoud, Stover Detlev, Tietz Frank, Ullmann Helmut, Vashuk Vladimir. Заявка 10208883 Германия, МПК 7 B 01 D 71/02. Forschungszentrum Julich GmbH. №10208883.7; Заявл. 01.03.2002; Опубл. 18.09.2003. Нем.
Предложена окисная мембрана для прохождения O2 при высоких температурах. Состав материала мембраны соответствует формуле Zn2-aAaBO4-δ, где Zn=La, Ce, Pr или Nd A=Ca или Ir, B=переходный металл, в частности Fe, Co, Ni или Mn, a=0-1,6, δ определяется валентностью металла. Коэффициент диффузии O2 через мембрану составляет >=10-4 см2/сек; мембрана имеет слоистую структуру перовскита K2NiF4, ограниченную материалом с другой структурой. Данная мембрана пропускает O2, особенно при 900-1600ºC, и м. б. использована в реакторе для катализа. Приведены графики зависимости удельной проводимости мембраны от обратных значений температур и логарифма парциального давления O2.

Ключевые слова: АКК мембраны, н оксидные, состав, АКК кислород, к диффузия


Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.

Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору