 |
|
|
26.МБ.170. Очистка сточных вод, содержащих медь, с использованием жидких мембран
Yu Xiao-jiao, Yao Bing-hua, Zhou Xiao-de. Xi‘an ligong daxue xuebao=J. Xi‘an Univ. Technol.. 2003. 19, № 2, с. 145–147. Кит.
В лабораторных экспериментах исследовался метод удаления ионов меди из СВ гальванопроизводства, образующихся в процессах нанесения меди на различные поверхности. В использовавшихся при этом жидких мембранах носителем являлась алкилфосфоновая кислота (I), концентрация которой в экспериментах изменялась от 3,5 до 9%, скорость вращения магнитной мешалки от 200 до 400 об/мин, температура раствора от 15 до 30ºC. Модельные СВ содержали ионы меди и никеля в концентрациях от 25 до 90 мг/л, установлено, что при концентрации носителя 7,5%, температуре 30ºC, скорости вращения мешалки 350 об/мин и величине pH 3,5-4,5 эффективность удаления Cu2+ составила 99,8% и Ni2+ менее 3%, при увеличении pH до 5,7 никель также удалялся практически полностью.
Ключевые слова: АКК сточные воды, АКК гальваническое производство, АНН очистка, АКК медь, АКК никель, АНН ионы, удаление, АКК мембраны, н жидкие, АСН алкил-, п фосфоновая кислота, н в кач-ве носителя
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
