ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера обзор
26.МБ.81. Непрерывное изготовление ультратонких нанопленок при использовании технологии самопроизвольного образования пленки Continuous production of ultrathin polymeric nanofilms using the spontaneous film formation technique. Hinrichsen Georg, Hoffmann Andreas, Schleeh Thomas, Macht Christian. Adv. Polym. Technol.. 2003. 22, 2, с. 120125. Англ.
Описан своеобразный непрерывный лабор. процесс изготовления ультратонких ПЛ из разных термопластов, таких как ПКР, полиэфиримид, полисульфон и жидкокрист. ПЭФ на основе разработанной технологии самопроизвольного образования ПЛ, механизм образования которой происходит при расположении капелек воды на ПВ раствора (РР) полимера. Вследствие снижения поверхн. энергии воды капелька покрывается тонким слоем РР за период <1 с, а при послед. испарении Р тонкая ПЛ уплотняется и растет в толщине со временем, а после удаления тонкой ПЛ с ПВ капельки воды процесс образования ПЛ начинается снова. Для успешности этого механизма образования ПЛ должны соблюдаться определенные условия: полимер должен растворяться в орг. растворителях высокого давл. пара; разделение фаз между РР и водой; плотность РР выше чем воды и газовая фаза выше системы не должна насыщаться паром растворителя. Непрерывные ПЛ толщ. 20-100 нм получали на лабор. установки при скорости намотки 1-20 м/мин. Установлено, что толщина ПЛ зависит от типа термопласта, его молярной массы, температуры растворения и, гл. обр., от концентрации полимера в РР и скорости намотки. При толщине <100 нм ПЛ может легко изготавливаться при достаточно низкой концентрации полимера и достаточно высокой скорости намотки. Получаемые ПЛ могут применяться в мембранах, оптич. устройствах, а также для микролитографич. целей.

Ключевые слова: АКК пленки полимерные, АКК термопласты




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору