ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера обзор
25.МБ.182. Влияние электрохимической реакции и самостресса на диффузию водорода в трубчатых мембранах в процессе гальваностатического заряжения Effects of electrochemical reaction and self-stress on hydrogen diffusion in tubular membranes during galvanostatic charging. Zhang Wu-Shou. J. Alloys and Compounds. 2003. 356-357
На основании теорий водородного электрода на поверхности палладия и самостресса водорода в тонких трубчатых матрицах, установленных ранее, проведен расчет транспортных свойств водорода через трубчатую мембрану в условиях гальваностатического заряжения. Обнаружено, что фактический поток водорода много меньше, чем ток заряжения, так как на внешней поверхности имеет место реакция соединения водорода. С другой стороны, суммарная система после длительного заряжения находится в нестабильном состоянии, что затрудняет экспериментальное определение коэффициента диффузии водорода.

Ключевые слова: АКК электрохимическая реакция, АНН самостресс, влияние, АКК диффузия, АКК водород, АКК мембраны, н трубчатые, АКК заряжение, н гальваностатическое, АКК обзоры, АНН библ. 20


Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.

Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору