ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера статья
23.МБ.203. Механизм влияния катионов Fe(III) на характеристики ионоселективных электродов на основе халькогенидов Фунтиков В. А., Антонова Н. Е.. Актуальные проблемы современной науки. Естественные науки: Труды 3 Международной конференции молодых ученых и студентов, Самара, 30 сент.-2 окт., 2002. Ч. 4-6. Физика. Химия. Наука о Земле. Самара:Изд-во СамГТУ. 2002, с. 8889. Рус.
Представлены результаты исследования электродных функций твердофазных электродов на основе стекол систем Ge-As-Te, Cu-Ge-Te, Cu-As-Se, Cu-As-Te, Tl-Ge-Te, Tl-As-Te и стеклокристаллов системы Cu-As-Se в градуировочных растворах сульфата трехвалентного железа. Установлено, что практически все электроды на основе стекол и стеклокристаллов исследованных систем имеют отклик на присутствие в растворах ионов трехвалентного железа. Наиболее устойчивые электродные функции наблюдаются для мышьяксодержащих халькогенидных мембран. Особо выделяются мембраны на основе системы Cu-As-Se, электродная функция которых сохраняет линейность в пределах 10-6-10-1 моль/л Fe3+. Величины углового коэффициента близки к 60 мВ/дек, что свидетельствует об электроннообменном механизме потенциалообразования у исследованных стекол и стеклокристаллов. Предположено, что измененный поверхностный слой на мембранах на основе исследованных сплавов образуется за счет того, что происходит частичное окисление поверхности халькогенидного стекла или стеклокристалла, в результате чего к его поверхности присоединяются ионы Fe3+, образуя в результате окислительно-восстановительной реакции центры обмена, содержащие катионы Fe2+. Экспериментально показано, что модификация халькогенидных мембран в растворах солей Fe3+ происходит в результате окисления поверхности мембран, а катионы Fe3+ градуировочных растворов обмениваются с поверхностными ионами железа Fe2+ халькогенидных мембран по механизму окислительно-восстановительной реакции.

Ключевые слова: АКК электроды ионоселективные, АКК халькогениды, АКК железо, к катионы, н Fe(III), АНН влияние на х-ки




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору