ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
19.МБ.292. Способ и устройство для обработки сточных вод, содержащих фоторезистивные материалы Process and equipment for recovering developer from photoresist development waste and reusing it. . Пат. 6488847 США, МПК 7 C 02 F 9/02. Organo Corp., Sugawara Hiroshi. №09/757368; Заявл. 09.01.2001; Опубл. 03.12.2002: Приор. 30.10.1998, №10-309606(Япония); НПК 210/259. Англ.
Сообщается, что в производстве полупроводников и микросхем применяется технология фотолитографии, при этом на подложку наносятся светочувствительные пленки. СВ от этих производств содержат в том числе гидроксид тетраалкиламмония (ГТАА). Предлагается метод комбинированной обработки данных СВ с их возвратом в рецикл (а также с возвратом ГТАА). Предложено несколько вариантов реализации способа, во всех случаях используются стадии нанофильтрации, обессоливания методом электродиализа и сорбции на акт. углях. В приводимом примере исходные СВ имели ХПК 8600 мг/л, и после обработки 510 мкг/л, метод анализа колориметрический на волне 290 нм.

Ключевые слова: АКК сточные воды, АКК электроника, АНН очистка, АКК мембранная технология, АКК фоторезисты, н удаление, возврат в рецикл., АКК сточные воды технология




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору