ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера статья
19.МБ.61. Контактная межфазная граница и характеристики поверхности между TiN, нанесенным мультидуговым ионным осаждением, и различными материалами основы Xu Fuchun, Wang Shuiju, Lin Xiuhua. (Analysis and Testing Centre, Xiamen University, Xiamen 361005) Huaxue wuli xuebao=Chin. J. Chem. Phys. 2002. 15, 1, с. 6974. Библ. 13. Кит.; рез. англ.
Проведены эксперименты по осаждению мембран (МБ) TiN на различные материалы основы по технологии мультидугового ионного осаждения. Это позволило получить сложные МБ TiN/Fe, TiN/Cu и TiN/Cr/Cu. Изучены внешний вид, структура и характеристики поверхности (ПВ) контактных межфазных границ TiN с подслоями Fe, Cu и Cr/Cu. Показано, что при определенных условиях осаждения ионной МБ формируется хорошо распределенная плоская контактная межфазная граница между покрытием (ПК) и материалами основы. В то же время существует кажущаяся межфазная граница на Cu и четкое распределение микрокристаллизации в виде сандвича. Все МБ, сформировавшиеся на ПВ Fe, Cu и Cr/Cu, обладают гетероморфизмом и содержат TiN, Ti2N и т. д. Установлено также существование некоторых металлосоединений Ti-Cr на межфазной границе Cr/Cu. На ПВ оксидированных МБ помимо TiN образуются TiO2 и TiOxNx. После травления в Ar в течение 5 мин. TiO2 исчезает, а содержание TiOxNx снижается, тогда как количество TiN увеличивается. На межфазной границе TiN-Cr/Cu обнаружен слой взаимной диффузии Ti-Cr и Cr-Ni, который увеличивает адгезию МБ и сформированной пленки TiN.

Ключевые слова: АКК мембраны, н TiN, АКК осаждение, н мультидуговое ионное, АКК материалы, н основы Fe, Cu и Cr/Cu, АКК поверхности раздела




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору