ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
16.МБ.294. Способ и устройство для удаления из сточных вод меди Sludge-free treatment of copper CMP wastes. Пат. 6306282 США, МПК7 C 02 F 1/46. Advanced Micro Devices, Inc., Dungan Lawrence James, Han Leon. 09/225210; Заявл. 04.01.1999; Опубл. 23.10.2001; НПК 205/574. Англ.
Способ предназначен преимущественно для обработки СВ от производства микросхем, в приводимом примере СВ содержат ионы меди в концентрации 215 мг/л, а также частицы твердых образований в количестве 0,031,0%. В соответствии со способом вначале происходит отделение твердой фазы на мембранном фильтре, при этом ионы меди проходят через мембрану; концентрат содержит 5% или более твердой фазы. Удаление ионов меди происходит на ионобменной установке, при этом образующийся при регенерации раствор обрабатывается в электролизере с фиксацией ионов меди на электродах.




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору