ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера патент
16.МБ.277. Крупнопористые синтетические полимерные мембраны Large pore synthetic polymer membranes. Ditter Jerome, Morris Richard A., Zepf Robert. Заявка 1118377 ЕПВ, МПК7 B 01 D 67/00, B 01 D 69/02. USF Filtration and Separations Group Inc. 00204554.0; Заявл. 03.03.1995; Опубл. 25.07.2001; Приор. 04.03.1994, 206114 (США). Англ.
Полимерные высокоасимм. МБ с крупными порами, к-рые дают точки появления пузырька (ТПП) в интервале диф. давл. 3,4172,4 кПа и повышенные расходные х-ки. МБ м. б. отлиты как из метастабильных дисперсий, так и из гомог. литьевых рецептур. Методика синтеза включает экспонирование отлитой МБ во влажном воздухе, чтобы получить крупные поверхн. поры на экспонируемой стороне. Пример. Получение крупнопористой полисульфоновой МБ с использованием станд. рецептуры Wrasidlo BTS-45 (0,2 мкм). МБ, имеющую поры большого диам. в плотном тонком поверхн. слое получали из станд. Wrasidlo полисульфоновой рецептуры, дающей высокоасимм. МБ, имеющие ТПП при диф. давл. 310 кПа. Методика отливки МБ отличалась только увеличенным воздушным зазором и мониторингом относит. влажности при отливке. Использовали след. рецептуру (%): ДМФА 73,72, трет. амиловый сп. 15,56, полисульфон (АМОСО Р 3500) 10,75, литьевой индекс 173. Рецептуру отливали в автоматич. литьевой машине. Рецептуру распределяли раклей на бумаге с ПЭ-ПК при след. условиях: т-ра литьевого р-ра 41º, т-ра закалочной воды 47,7º, воздушный зазор 152,4 мм, скорость литья 6,1 м/мин, т-ра 25º, относит. влажность 59%. Св-ва МБ:ТПП 55,2 кПа (диф.), расход воды 19,9 см/мин-6,9 кПа (диф.), средний размер проточной поры 0,9 мкм, толщина 121 мкм, разрывная прочность 454 г/см, удлинение 27%. По сравнению с традиционно получаемыми МБ эта МБ имела значительно более низкую ТПП и производительность.




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору