ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера статья
13.МБ.160. Опыт эксплуатации комплексной установки для очистки сточных вод гальванического производства и регенерации концентрированных растворов Капустенко А.Ф., Поворов А.А., Павлова В.Ф., Ерохина Л.В. Всероссийская научная конференция "Мембраны 2001", Москва, 25 окт., 2001: Программа. Тезисы докладов. М.: Б. и. 2001, с. 31. Рус.
Установка комплексной очистки р-ров гальванич. произ-ва включает четыре основных узла: установки очистки промывных вод (на базе обратного осмоса) произв-стью 0,5 м3/час; узла регенерации электролитных ванн хромирования (на базе электродиализа) произв-стью 0,13 м3/мес.; узла регенерации моющих и обезжиривающих р-ров (на базе ультрафильтрац. модулей), произв-стью 150 л/час. Установка изготовлена и введена в эксплуатацию поэтапно с 1997 года. В настоящее время на стадии изготовления установка регенерации отработанных травильных р-ров серной к-ты с использованием электромембранных методов. Внедрение локальных очистных сооружений позволило возвратить в производств. цикл до 95% компонентов рабочих р-ров и электролитов, значительно уменьшить отходы тяжелых металлов и получить их в виде цветного лома и утилизируемых шламов.

Ключевые слова: акк гальваническое производство% акк очистка% н СВ и технол. р-ров% н комплексная установка% акк сточные воды% н промывные, очистка% акк растворы% н моющие и обезжиривающие% к регенерация% акн электролитные ванны% к хромирование% к регенерация% акк травильные растворы% н серной к-ты, отработанные% н регенерация% акк мембранная технология% акк электромембранные процессы% акк осмос обратный% акк электродиализ% акк ультрафильтрование% н ультрафильтрац. модули% акк очистные сооружения% н локальные, внедрение% акк металлы тяжелые% н извлечение и утилизация




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору