 |
|
|
11.МБ.240. Метод плазменной обработки и установка для плазменной обработки
Method for plasma treatment and apparatus for plasma treatment. Пат. 6060329 США, МПК 7 H 01 L 21/00. Fujitsu Ltd, Kamata Takeshi, Arimoto Hiroshi. № 09/049097; Заявл. 27.03.1998; Опубл. 09.05.2000; Приор. 27.03.1997, № 9-075087 (Япония); НПК 438/9. Англ.
Описаны метод и установка для плазменной обработки, в том числе операция определения частиц, содерж. в плазме, используемой для выращивания или травления МБ. Метод прост и способен эффективно в реальном времени на месте контролировать число частиц с высокой точностью. Определение присутствия или отсутствия частиц и их кол-во в плазменной зоне во время генерации плазмы производится путем измерения величины электронной плотности или изменения ее кол-ва в плазменной зоне. Изменение плотности электронов в плазменной зоне легко определяется с помощью излучения микроволн в плазменную зону от источника, установленного снаружи камеры. Кол-во частиц увеличивается в соответствии с уменьшением электронной плотности и, наоборот, уменьшается, если величина электронной плотности повышается. В установке изменяются как ВЧ мощность, прикладываемая к паре электродов для генерации, так и электронная плотность. При снижении ВЧ мощности кол-во частиц уменьшается, и скорость затухания эл. плотности подавляется. Кол-во частиц поэтому легко оценивается. Присутствие или отсутствие частиц, их размер м. б. оценен путем наблюдения за временем подъема или временем спада электронной плотности при изменении величины ВЧ мощности.
Ключевые слова: акк мембраны% н выращивание% акк травление% н плазменное% акк плазменная технология% акк электроны% н в плазме, измерение плотности% акк плазменная обработка% н установка% акк микроволны% н использование для диагностики плазмы
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
