ChemNet
 
Предыдущий реферат Следующий реферат Содержание номера статья
10.МБ.117. Образование поверхностного слоя SiOxна пленках из сшитых полисилоксанов под действием озона, образующегося при УФ-облучении, и его влияние на процессы разделения газов UV-ozone induced growth of a SiOx surface layer on a cross-linked polysiloxane film: characterization and gas separation properties. Ouyang M., Muisener R.J., Boulares A., Koberstein J.T. J. Membr. Sci. 2000. 177, 1-2, с. 177-187. Англ.
Методами рентгеноэлектронной спектроскопии, ИК-спектроскопии отражения, определения краевого угла смачивания и атомно-силовой микроскопии исследовали образование тонкого слоя SiOx на ПВ пористых МБ NYLON, покрытых слоем сшитого полисилоксана, при облучении УФ-светом при ~20º в атмосфере, содерж. О2. Показано, что сплошной слой SiOx образуется при облучении в течение ~1 часа. Слой имеет узловатую структуру с характерным размером ~0,5 нм. Проницаемость таких МБ по отношению к CO2 8,9·10-8 моль/м2·с·Па. Селективность CO2/N2 @ 22. После озонирования проницаемость снижается до 5,1·10-8 моль/м2·с·Па, селективность повышается до ~48.

Ключевые слова: акк мембраны полимерные% н пористые% акк полиамиды% н с ПК% акк полисилоксаны% н сшитые% акк озонирование фото% н УФ-, влияние% асп кремний% п оксиды% н образование% акк поверхностные слои% н состав, структура% акк газопроницаемость% к углерод диоксид% акк краевой угол% акк спектроскопия ИК% н отражения% акк спектроскопия рентгеноэлектронная% акк микроскопия сканирующая атомно-силовая




Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается  копирование материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору